ФИЦ ПХФ и МХ РАН: Развитие отечественных материалов для ArF-фотолитографии до 90 нм и оптимизация СМК
Сегодня в ФИЦ ПХФ и МХ РАН прошло рабочее совещание с представителями АО НИИМЭ, ООО Поликетон и ИПТМ РАН, посвященное рассмотрению текущей ситуации в области разработки фотолитографических материалов. Участники встречи …