Назад
ФИЦ ПХФ и МХ РАН: Развитие отечественных материалов для ArF-фотолитографии до 90 нм и оптимизация СМК

Сегодня в ФИЦ ПХФ и МХ РАН прошло рабочее совещание с представителями АО НИИМЭ, ООО Поликетон и ИПТМ РАН, посвященное рассмотрению текущей ситуации в области разработки фотолитографических материалов.

Участники встречи обменялись мнениями о возможностях отечественных предприятий, разрабатывающих и выпускающих литографическую продукцию, а также обсудили необходимость увеличения объемов выпуска передовых материалов для ArF-фотолитографии с топологической нормой до 90 нм, разработанных с участием специалистов ФИЦ ПХФ и МХ РАН.

Амбициозная задача, которую сформулировали и поставили перед собой участники заседания, включает повышение результативности и эффективности системы менеджмента качества, внедренной в нашем ФИЦ, в целях масштабирования производства фотолитографических материалов.

Сегодня в ФИЦ ПХФ и МХ РАН прошло рабочее совещание с представителями АО НИИМЭ, ООО Поликетон и ИПТМ РАН, посвященное рассмотрению текущей ситуации в области разработки фотолитографических материалов.

Участники встречи обменялись мнениями о возможностях отечественных предприятий, разрабатывающих и выпускающих литографическую продукцию, а также обсудили необходимость увеличения объемов выпуска передовых материалов для ArF-фотолитографии с топологической нормой до 90 нм, разработанных с участием специалистов ФИЦ ПХФ и МХ РАН.

Амбициозная задача, которую сформулировали и поставили перед собой участники заседания, включает повышение результативности и эффективности системы менеджмента качества, внедренной в нашем ФИЦ, в целях масштабирования производства фотолитографических материалов.