Получен патент на инновационное устройство для генерации плазмы

 Ученые ФИЦ ПХФ и МХ РАН зарегистрировали патент на уникальное  изобретение в области генерации плазмы с использованием СВЧ-разряда –  СВЧ-ПЛАЗМОТРОН И СПОСОБ ГЕНЕРАЦИИ ПЛАЗМЫ
 Это устройство представляет собой металлическую разрядную камеру, в  которую СВЧ-энергия вводится через специальную щель, соединенную с  трубой-волноводом. Инновацией является то, что внутри этой трубы  создается закрученный поток газа, который вращается вокруг оси
 разрядной камеры.
 Чтобы избежать образования нежелательной зоны рециркуляции газа, в  конструкцию введена дополнительная металлическая труба меньшего  диаметра. Это позволяет эффективно направлять вращающийся поток газа и  вводить СВЧ-энергию на электромагнитной волне в разрядную камеру, что  значительно повышает производительность устройства.
Кроме того, новая конструкция обеспечивает защиту герметизирующего  диэлектрического окна от воздействия плазмы и продуктов реакции, а  также оптимизирует процесс ввода плазмообразующего газа. Технический  результат этого изобретения — увеличение надежности и долговечности  устройства, что открывает новые возможности для проведения  плазмохимических и тепловых процессов при высоких мощностях до 30 кВт  и более в условиях атмосферного давления.

 Поздравляем БЕРЕСТЕНКО В.И., ЛЮБУШКИНУ Т.А., МОРОЗОВА А.О., АХРЕМЕНКОВА  Б.В., ПРОКОПЕНКО А.В. с полученным патентом и желаем дальнейших  успехов в научных изысканиях!

 Ученые ФИЦ ПХФ и МХ РАН зарегистрировали патент на уникальное  изобретение в области генерации плазмы с использованием СВЧ-разряда –  СВЧ-ПЛАЗМОТРОН И СПОСОБ ГЕНЕРАЦИИ ПЛАЗМЫ
 Это устройство представляет собой металлическую разрядную камеру, в  которую СВЧ-энергия вводится через специальную щель, соединенную с  трубой-волноводом. Инновацией является то, что внутри этой трубы  создается закрученный поток газа, который вращается вокруг оси
 разрядной камеры.
 Чтобы избежать образования нежелательной зоны рециркуляции газа, в  конструкцию введена дополнительная металлическая труба меньшего  диаметра. Это позволяет эффективно направлять вращающийся поток газа и  вводить СВЧ-энергию на электромагнитной волне в разрядную камеру, что  значительно повышает производительность устройства.
Кроме того, новая конструкция обеспечивает защиту герметизирующего  диэлектрического окна от воздействия плазмы и продуктов реакции, а  также оптимизирует процесс ввода плазмообразующего газа. Технический  результат этого изобретения — увеличение надежности и долговечности  устройства, что открывает новые возможности для проведения  плазмохимических и тепловых процессов при высоких мощностях до 30 кВт  и более в условиях атмосферного давления.

 Поздравляем БЕРЕСТЕНКО В.И., ЛЮБУШКИНУ Т.А., МОРОЗОВА А.О., АХРЕМЕНКОВА  Б.В., ПРОКОПЕНКО А.В. с полученным патентом и желаем дальнейших  успехов в научных изысканиях!