Российский научный фонд объявил итоги масштабного конкурса в рамках инициативы «Новые материалы и химия». Экспертный совет отобрал проекты, нацеленные на создание перспективных технологий для реального сектора экономики — от новых поколений аккумуляторов до передовых решений в области микроэлектроники. В числе победителей — три разработки наших специалистов. Все они связаны с созданием новых материалов и прецизионных химических продуктов, востребованных в современном микроэлектронном производстве. Так, в партнерстве с АО «НИИМЭ» Центр будет работать над двумя проектами. Первый посвящен разработке технологии синтеза ионогенных фоточувствительных соединений на основе сульфониевых солей (рук. – Аккуратов А.В). Второй нацелен на создание аналогичной платформы для получения йодониевых производных и соединений на основе норборнендикарбоксимида (рук. – Баймуратова Р.К.). Эти материалы являются ключевыми компонентами для химически усиленных фоторезистов, используемых в фотолитографии с длинами волн 193 нм и 248 нм соответственно. Третий проект, который будет реализован совместно с ООО «Поликетон», предполагает разработку технологии синтеза сложных эфиров метакриловой кислоты и циклических спиртов (рук. – Малков Г.В.). Эти мономеры необходимы для создания полимерной основы высокочувствительных фоторезистов, применяемых в процессе литографии с излучением 193 нм. Результаты этих работ должны заложить фундамент для создания отечественных технологий микротоннажного производства — важного этапа на пути к их последующему промышленному внедрению. Поздравляем наших коллег с этим значительным достижением и желаем им успешной реализации проектов! |
Российский научный фонд объявил итоги масштабного конкурса в рамках инициативы «Новые материалы и химия». Экспертный совет отобрал проекты, нацеленные на создание перспективных технологий для реального сектора экономики — от новых поколений аккумуляторов до передовых решений в области микроэлектроники.
В числе победителей — три разработки наших специалистов. Все они связаны с созданием новых материалов и прецизионных химических продуктов, востребованных в современном микроэлектронном производстве.
Так, в партнерстве с АО «НИИМЭ» Центр будет работать над двумя проектами. Первый посвящен разработке технологии синтеза ионогенных фоточувствительных соединений на основе сульфониевых солей (рук. – Аккуратов А.В). Второй нацелен на создание аналогичной платформы для получения йодониевых производных и соединений на основе норборнендикарбоксимида (рук. – Баймуратова Р.К.). Эти материалы являются ключевыми компонентами для химически усиленных фоторезистов, используемых в фотолитографии с длинами волн 193 нм и 248 нм соответственно.
Третий проект, который будет реализован совместно с ООО «Поликетон», предполагает разработку технологии синтеза сложных эфиров метакриловой кислоты и циклических спиртов (рук. – Малков Г.В.). Эти мономеры необходимы для создания полимерной основы высокочувствительных фоторезистов, применяемых в процессе литографии с излучением 193 нм.
Результаты этих работ должны заложить фундамент для создания отечественных технологий микротоннажного производства — важного этапа на пути к их последующему промышленному внедрению.
Поздравляем наших коллег с этим значительным достижением и желаем им успешной реализации проектов!