office@icp.ac.ru
+7 496 522-51-64
В настоящее время все передовые материалы и технологии для производства микроэлектроники запрещены к поставке в Российскую Федерацию.
Технологический суверенитет и рост российского рынка микроэлектроники с одновременным увеличением доли российской ЭКБ требуют постановки на производство современных материалов и их критических компонентов.
В силу небольших объемов требуемых материалов и необходимости тесного взаимодействия науки и производства при их разработке предлагается создание Центров малотоннажной химии на базе крупных учебных и научных организаций.
На площадке ФИЦ ПХФ и МХ РАН – крупнейшего материаловедческого центра Российской академии и опорной научной организации по литографическим материалам для существующих и новых технологий – планируется создать первый в России ЦЕНТР МАЛОТОННАЖНОЙ ХИМИИ (ЦМХ) ПО РАЗРАБОТКЕ И МИКРОТОННАЖНОМУ ПРОИЗВОДСТВУ ЛИТОГРАФИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ ДЛЯ МИКРОЭЛЕКТРОННОЙ ПРОМЫШЛЕННОСТИ.
Проведение реконструкции с техническим перевооружением лабораторного корпуса с прилегающим земельным участком приведет к созданию комплекса зданий ЦМХ общей полезной площадью более 2500 м2.
Характеристики существующего объекта:
- 3 этажа
- 1378,5 м2 общая площадь
- 639,5 м2 основная площадь (FootPrint)
- возможность подключения к сетям
ЦМХ будет включать в себя чистые производственные помещения ИСО 5-8, оснащенные комплексом аналитического и технологического оборудования, инженерных станций и систем для проведения перспективных разработок и организации микротоннажного производства материалов для микроэлектроники.
Характеристики объекта после реконструкции:
- 4 этажа + техническое подполье
- 2 530,9 м2 общая площадь
- ~ 1000 м2 площадь ЧПП
- приточно-вытяжная вентиляция с дезактивацией
- газовые линии
- системы утилизации/сбора отходов, водоподготовки, вакуумирования, нагрева/охлаждения реакторов и т.д.
|
В настоящее время все передовые материалы и технологии для производства микроэлектроники запрещены к поставке в Российскую Федерацию. Технологический суверенитет и рост российского рынка микроэлектроники с одновременным увеличением доли российской ЭКБ требуют постановки на производство современных материалов и их критических компонентов. В силу небольших объемов требуемых материалов и необходимости тесного взаимодействия науки и производства при их разработке предлагается создание Центров малотоннажной химии на базе крупных учебных и научных организаций. На площадке ФИЦ ПХФ и МХ РАН – крупнейшего материаловедческого центра Российской академии и опорной научной организации по литографическим материалам для существующих и новых технологий – планируется создать первый в России ЦЕНТР МАЛОТОННАЖНОЙ ХИМИИ (ЦМХ) ПО РАЗРАБОТКЕ И МИКРОТОННАЖНОМУ ПРОИЗВОДСТВУ ЛИТОГРАФИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ ДЛЯ МИКРОЭЛЕКТРОННОЙ ПРОМЫШЛЕННОСТИ. Проведение реконструкции с техническим перевооружением лабораторного корпуса с прилегающим земельным участком приведет к созданию комплекса зданий ЦМХ общей полезной площадью более 2500 м2. Характеристики существующего объекта:
ЦМХ будет включать в себя чистые производственные помещения ИСО 5-8, оснащенные комплексом аналитического и технологического оборудования, инженерных станций и систем для проведения перспективных разработок и организации микротоннажного производства материалов для микроэлектроники. Характеристики объекта после реконструкции:
|